真空蒸發等離子濺射二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。儀器元件高度集成化，在同一個腔體內即實現了兩種鍍膜功能；本鍍膜儀采用304不銹鋼腔體作真空腔體，鍍膜過程完全可見。儀器標配雙極旋片真空泵，能夠快速達到1.0E-3Pa的真空度,極限真空度1.0E-5Pa，可滿足大多數蒸發鍍膜實驗和二極濺射實驗所需的真空環境。本儀器體積小，節省空間，能夠置于試驗臺上使用，一機多用，性價比突出，非常適合各大高校及研究機構選用。

名稱	高真空蒸發等離子濺射二合一鍍膜儀
型號	TN-EVS180S-HV
應用	掃描電鏡樣品表面噴金、蒸金噴碳等操作，以及非導體材料試驗電極的制作等。
技術參數	供電電壓 AC220V，60Hz max大功率 1200W 樣品臺 直徑φ65mm； 與蒸發源間距可調，調節范圍60mm-100mm 真空腔體 材質：304不銹鋼 O.Dφ168mm x I.Dφ160mm x 210mm max高溫度 1700℃ 熱電偶 B型熱電偶 真空計 電子式真空計 真空系統 前級泵：浦發MVP030 無油泵   抽速30L/min 次級泵：萊寶TURBOVAC 90iX   抽速90L/s 真空接口 KF40 進氣接口 1/4卡套接頭
規格	整機尺寸 500x350x400mm