TN-PSP180G-3TA三靶等離子濺射鍍膜儀（基礎版）是我公司自主研發(fā)的一款高性價比等離子濺射鍍膜設備，具有結構緊湊，簡單易用，集成度高，設計感強的優(yōu)勢。三靶等離子濺射鍍膜儀等離子濺射靶為2英寸的標準尺寸，配備3個濺射靶頭，以滿足鍍單層膜或者多種材料多層膜的不同實驗需求。儀器所配電源為150W直流高壓電源，可用于金屬濺射鍍膜，尤其適合金銀銅等貴金屬的鍍膜。

產品名稱	三靶等離子濺射鍍膜儀-基礎版
產品型號	TN-PSP180G-3TA
主要特點	自主研發(fā)、高性價比 具有結構緊湊，簡單操作 2英寸標準尺寸等離子濺射靶， 150W直流高壓電源，金屬濺射鍍膜
技術參數(shù)	1、樣品臺：尺寸φ100mm；到靶面距離：20-35mm 可調 2、直流濺射頭：數(shù)量2” ×3   3、真空腔體：尺寸：φ180mm × 210mm、材料高純石英、全向透明、頂蓋拆卸式 4、真空系統(tǒng)：雙極旋片真空泵 ；抽氣速率：旋片泵：1.1L/S；極限真空：10E-1Pa     抽氣/排氣接口：KF16； 真空測量：電阻規(guī)； 5、濺射電源配置：直流電源 ×1；max輸出功率:150W，濺射電壓1200V，max大濺射電流50mA
產品規(guī)格	尺寸500mm × 320mm × 470mm；重量30kg ；供電電壓：AC220V,50Hz；功率1500W

1.鍍膜儀配有通氣接口，可通入保護性氣體，若客戶需要通入混合氣體，聯(lián)系工作人員自行配置高精度質量流量計以滿足實驗需要。

2.本鍍膜儀標配為雙極旋片真空泵，其具有體積小，抽真空快，操作簡單的優(yōu)勢，若客戶有進一步提升真空度的需要，可以聯(lián)系技術人員選配分子泵組組成高真空系統(tǒng)。

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