○ 產品介紹

TN-PEC250G-HV碳鍍鎢蒸等離子濺射復合鍍膜儀可進行真空蒸碳、真空熱蒸發和等離子濺射，它也可以在高純氬氣的保護之下進行多種離子處理。通過更換功能套件，設備可以在多種功能間快速切換，非常適合實驗室制作SEM樣品使用。本儀器裝有機械泵和分子泵，能夠滿足多種真空度要求，尤其能夠實現高真空，能夠有效提高鍍膜質量。

○ 適用范圍

實驗室鍍膜使用。

○ 技術參數

真空腔體	高純石英，鐘罩狀，φ250x340mm
蒸發腔體	高純石英，鍍罩狀，帶側面開孔，尺寸φ88x150mm
等離子濺射腔體	高純石英，鍍罩狀，帶側面開孔，尺寸φ88x150mm
	等離子濺射套件   濺射電壓 1600V *大電流 50mA 靶面尺寸 2英寸 工作真空 10Pa~20Pa 工作氣氛 需通入高純氬氣
	熱蒸發鍍膜套件  蒸發源數量 2個 *大電流 100A 工作真空 10^-3Pa 工作氣氛 不通入任何氣體 樣品臺 直徑φ60mm，可旋轉
	碳蒸發套件  蒸發方式 碳棒蒸發 *大電流 160A 工作真空 10^-3Pa 工作氣氛 不通入任何氣體
真空系統	產品型號 TN-GZK103-A 分子泵 渦輪分子泵 前極泵 雙極旋片泵 抽氣速率 分子泵：600L/S 綜合抽氣性能：30分鐘真空度可達：5×10E-3Pa 旋片泵：1.1L/S 極限真空 5×10E-4Pa 抽氣接口 KF40 排氣接口 KF16 真空測量 復合真空計
進氣系統	配有手動微調閥，接口為1/4英寸卡套接頭
供電要求	AC 220V 50Hz

○免責聲明

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