0371-5536 5392 0371-5519 9322
-
高真空迷你cvd實驗室設備 高真空迷你cvd實驗室設備核心是一款迷你管式爐，采用電阻絲加熱，設備*高溫度可達1200℃，高真空迷你cvd實驗室設備采...
-
等離子加強化學沉積PECV... 等離子加強化學沉積PECVD鍍膜儀能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應速度，降低反應溫度，等離子加強化學沉積...
-
卷對卷式PECVD 卷對卷式PECVD是等離子增強型化學氣相沉積設備，該卷對卷式PECVD適合用于石墨烯在卷材上的連續生長
-
?單溫區旋轉PECVD石墨... ?單溫區旋轉PECVD石墨烯制備廣泛用于石墨烯制備，顆粒包覆等科學實驗上，該單溫區旋轉PECVD石墨烯制備適合顆粒型樣品...
-
1200℃單溫區3路質量供... 1200℃單溫區3路質量供氣高真空CVD系統由單溫區管式爐、三路質量流量計和高真空分子泵租組成。該1200℃單溫區3路質...
-
1200℃單溫區3路質量供... 1200℃單溫區3路質量供氣低真空CVD系統由單溫區管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。該1200℃單溫區3路質...
-
1200℃單溫區3路浮子供... 1200℃單溫區3路浮子供氣高真空CVD系統TN-O1200-50IT-3F-HV 由單溫區管式爐、三路浮子流量計和高真...
-
1200℃單溫區3路浮子供... 1200℃單溫區3路浮子供氣低真空CVD系統由單溫區管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。1200℃單溫區3路浮子...